Een uitgebreide analyse van drukmonitoring in halfgeleiderfabrieken

Aangezien er steeds meer prestaties van kunstmatige intelligentie naar voren komen, is de ontwikkeling van de halfgeleiderindustrie een cruciaal slagveld geworden voor de wereldwijde technologische concurrentie.Terwijl het 2nm-proces de eindstreep van de industrie is gewordenDe "precision war" in halfgeleiderreinigkamers is lang geleden begonnen. Het aantal deeltjes per kubieke meter lucht moet tot één cijfer worden gereguleerd en een drukschommeling van slechts 0.1 Pa kan tot gevolg hebben dat een hele partij wafers wordt geslooptVandaag onderzoeken we hoe Endress+Hauser zich heeft verdiept in het onderwerp "drukbewaking" om de precisiedoelstellingen van halfgeleiderfabrieken te garanderen.

In een halfgeleiderfabriek kan het gebruik van druktransmitters in één project 3.000 tot 12.000 eenheden bereiken, voor alle scenario's, waaronder cleanrooms, zuivere en afvalwaterzuivering,en gasdistributie.

Het handhaven van een microdifferentiële drukgradiënt van 5·10 Pa over verschillende cleanroomzones is de sleutel tot het voorkomen van kruisbesmetting.De Endress+Hauser Deltabar PMD75B differentialdrukzender heeft een standaard nauwkeurigheid van 0.05% (0,035% voor de nauwkeurigheid van platina). Het kan via Bluetooth worden ingesteld op een meetbereik van -50 ~ 50Pa voor een zeer nauwkeurige micro-differentiële drukbewaking,de naleving van de reinigingsvereisten van de schoonruimtes.

Uit de kalibratieverslagen blijkt dat de werkelijke meetfout < 0,014 Pa is.

In de HVAC-systemen van schoonruimtes varieert de druk in de uitlaatgassen doorgaans van -3.000 tot -1.500 Pa, en de corrosie van zuur-basis afvalgassen vormt een enorme uitdaging.De Endress+Hauser Deltabar PMD55BIn een uitlaatgasapplicatie in een halfgeleiderfabriek in Shanghai, werd een nieuw model ontwikkeld voor het opstellen van een nieuwe, op de markt gebrachte, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische, elektrische,het heeft met succes een stabiele gegevensuitgang bereikt met een tolerantie van ±10 Pa en automatisch alarm bij een druk van meer dan 50 Pa, waardoor het probleem van ongecontroleerde ventilatorstroom volledig wordt opgelost.

De Endress+Hauser Cerebra PMC51B heeft een 99,9% zuiver keramisch membraan met een droge,olievrij ontwerp dat lekken fundamenteel voorkomtHet biedt optioneel niet-metalen natte materialen, met name PVDF (polyvinylidenefluoride), om aan de chemische compatibiliteitseisen in halfgeleider-ultra-zuivere waterprocessen te voldoen.het keramische diafragma beschikt over een zelfcontrolefunctie: in geval van beschadiging van het diafragma of medium lekkage, zorgt het zelfcontrolesysteem voor een snelle foutfeedback om de ononderbroken werking van het systeem te waarborgen.

Afvalwater in de halfgeleiderindustrie bevat vaak zeer corrosief waterstoffluoride, wat extreme uitdagingen oplevert voor natte materialen.met een speciale coating, kan specifiek corrosieproblemen aanpakken. Its application in a fluorine-containing wastewater project at a semiconductor fab in Zhejiang has successfully solved the pain point of diaphragm bulging or rupture that plagues similar pressure transmitters in corrosive environments.

Processen zoals etsen en dunne-film afzetting vereisen een hoge vacuümomgeving.is bestand tegen hoog vacuüm met een minimale meetbare absolute druk van 0.1Pa, en is in staat om nauwkeurige gegevensondersteuning te bieden voor het 2nm-productieproces.

De Endress+Hauser Cerebra PMP51B, gecombineerd met videorecorders en een EP-afwerking (elektropolissing), is in de eerste plaats ontworpen om de sensoren van de elektronica te voorzien van een hoge zuiverheid en een zuiverheid van meer dan 99,999%.voldoet aan de drukbewakingsbehoeften van hoogzuivere gasdistributie in speciale gaskastenHet flexibele diafragmaverzegelingssysteem met speciale materiaaldiafragma's voldoet aan de strenge eisen van verschillende corrosieve chemicaliën, waardoor de drukcontrole van chemische opslagtanks mogelijk is.

Van de geboorte van een enkele chip tot de upgrade van de hele halfgeleiderindustrie,de nauwkeurigheid en betrouwbaarheid van druktransmitters is altijd de "onzichtbare hoeksteen" geweest achter de schermenTerwijl we de grenzeloze grenzen van chiptechnologie nastreven, zijn deze stilzwijgend werkende "druk stewards" de vitale kracht die onze koers beveiligt.Van micro-differentiële drukregeling in schoonruimtes tot veiligheidsbewaking bij afvalgasbehandeling, van nulverontreinigingsgarantie voor ultrazuiver water tot precieze levering van speciale gassen,Endress+Hauser-druktransmitters staan altijd al in de "precision frontline" van de intelligente vervaardiging van halfgeleiders, het begeleiden van drukmetingen en het leveren van professionele, veilige en efficiënte intelligente oplossingen.